软微影技术(soft lithography)，又称软微影制程、可挠性奈米转印、软蚀刻技术或软光刻技术，是一种用软性高分子材质做成的可挠性刻印的模具。

软微影技术(soft lithography)，又称软微影制程、可挠性奈米转印、软蚀刻技术或软光刻技术，是一种用软性高分子材质做成的可挠性刻印的模具，在模具上面涂布具有自我组合性能的单元分子(SAM， Self-Assembly Monomer)后，像印章一样，在镀金的薄膜基板上微压，把奈米图形模子上面凸出部分的自我组合性能的单元分子(SAM)像油墨一样的印在金薄膜上。

优点

软微影技术具有一些独特的优势比其他形式的微影(光刻)技术（如光刻和电子束光刻）。 它们包括以下内容：

1.更低的成本比传统微影技术大量生产。

2.非常适合应用在生物技术。

3.非常适合应用在塑胶电子。

4.非常适合于超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。

5.不需要制作光罩，即可制造一个小的细节设计比一般微影实验室设备的（30〜100 纳米）差不多。

缺点

集成电路包含了好几层不同的材料，PDMS 压模的扭曲变形会导致复制图案的小误差，也使上下层做好的图形排列得不整齐。即使是最微小的排列误差或扭曲，都会损坏多层奈米电子装置。因此，软蚀刻法不适合制造需要精准堆叠的多层结构。此缺点可藉热压成形式奈米压印或步进光感式奈米压印来改善之。